1998年开发的Ru的干蚀刻技术Ru的垂直加工是在什么时候、由谁实现的?1998年,隶属于日立制作所设备开发中心的笔者(汤之上隆)及其上司野尻一男(2000年跳槽到LamResearch,2019年开始任纳米技术研究代表)共同开发(图12)。图12:1998年在日立制作所实现的Ru和RuO2的垂直加工 来源:Takshi Yunogami and Kazuo Nojiri, “Anisotropic etching of RuO2/Ru with high aspect ratio for Giga-bit-DRAM”, J. Vac. Sci. Tech., B18(2000) p.1.笔者当时从事1G DRAM的开发。该DRAM的电容器绝缘膜预定使用Barium Strontium Titanium Oxide(BST),但由于BST的氧化力强以及与BST的接触面成为绝缘膜的SiO2,电容器电极不能使用聚Si。因此,作为不被氧化的稳定的电极材料,Pt属的Ru成为候补。但是,稳定的金属意味着垂直干蚀刻也很难实现。其中,我们通过改良Lam的电感耦合等离子体蚀刻装置(Lam的注册商标为TCP),实现了图12所示的柱的垂直加工(准确地说是89度)。该结果于2000年被采纳,在美国真空学会发表,并刊登在学术杂志《Journal of Vacuum Science and Technology》上。2022年后的今天,笔者们开发的Ru干蚀刻技术终于有了眉目。随着退出半导体舞台的Ru在最近几年备受瞩目,被用于尖端逻辑微细布线的可能性越来越大。笔者对此感慨万千。
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摩尔定律将持续到2040年如果High NA被实用化,半导体的微细化将持续到2035年。说明了利用其微细加工技术,尖端逻辑的晶体管和配线将持续进化。而在这次VLSI研讨会上,显示摩尔定律将持续到2040年(图13)。其纵轴为”System Energy Efficiency Performance”,指的是TOPS/W(Tera Operations Per Second/W,每单位能量的计算速度)。更简单地说,就是一定能量下能完成多快的单位。图13:摩尔定律将延续到2040年 来源:Michael Lercel (ASML), “Lithography and Patterning for 3nm node and beyond”, SemiconWest 2022.的幻灯片上作者加笔(”System Energy Efficiency Performance”部分)。在红牌的阴影下,笔者看不见它最初,随着晶体管变得越来越小,它们的功率密度保持不变,因此功率的使用与面积成比例,这被称为Dennard缩放比例定律。但这一定律在2005年左右被打破,当时由于发热问题,微细化不再能带来更高的速度。其次,以光刻密度和晶体管密度为纵轴,到2020年左右饱和。此外,如果将晶体管的”Energy Efficiency Performance”,即晶体管单位能量的动作速度作为纵轴,则从2015年开始饱和。最后,如果纵轴取”System Energy Efficiency Performance”,即,不是晶体管,也不是像处理器那样的一个芯片,而是一个System中每单位能量的动作速度,则到2040年为止成正比。可以认为,该系统是指具有多个芯片垂直堆叠的3D集成电路。如图14所示,如果实现High NA,则2D的微细化将持续到2035年,与此同时,叠加各种芯片的3D集成电路将被开发出来,规模化将通过这两条互补的路线进展。图14:两条路线相辅相成,进行缩放 出处:Mustafa Badaroglu(Qualcomm), “Heterogenous integration technologies: roadmap, look ahead, key challenges” VLSI2022, TW2-5全球半导体产业自2021年的疫情红利之后,开始进入了萧条期。但是半导体技术将继续一刻也不停地进化。2025年左右High NA大规模量产、2030年左右CFET的登场、持续到2035年的微细化、持续到2040年的摩尔定律等,笔者认为这些都值得关注(即便如此,笔者也没有信心一直写到2040年……)。
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